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래핑 슬러리

  • Polishing Slurryï¼AlâOï¼는 세라믹 연마용으로 특별히 개발된 콜로이드 실리카 슬러리이며 탄탈산 리튬(LiTaO3), 니오븀산 리튬(LiNbO3) 및 '유리 포토마스크, 페라이트 세라믹, Ni-P 디스크, 크리스탈, PZT 세라믹, 티탄산 바륨 세라믹, 베어 실리콘, 알루미나 세라믹, CaF2, 베어 실리콘 웨이퍼 재작업, SiC 세라믹, 사파이어, 전자 기판, 세라믹, 크리스탈. 우수한 입자 균일성 및 분산성으로 높은 제거율과 손상 없는 연마를 제공합니다.

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  • 웨이퍼 및 반도체 연마용 슬러리는 탄탈산리튬(LiTaO3), 니오브산리튬(LiNbO3), 'Glass Photomask, Ferrite Ceramics, Ni-P Disk, Crystal, PZT Ceramics'와 같은 세라믹 및 전자 기판을 연마하기 위해 특별히 개발된 콜로이달 실리카 슬러리입니다. , 티탄산 바륨 세라믹스, 베어 실리콘, 알루미나 세라믹스, CaF2, 베어 실리콘 웨이퍼 재작업, SiC 세라믹스, 사파이어, 전자 기판, 세라믹스, 크리스탈. 우수한 입자 균일성 및 분산성으로 높은 제거율과 손상 없는 연마를 제공합니다.

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  • 알루미늄, 스테인리스 스틸, 티타늄 등 모든 종류의 금속에 경면을 부여하는 연마용 슬러리입니다.

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  • 산화세륨 연마분으로 유리 연마력은 휴대폰 유리, 고정밀 렌즈, 광학 렌즈, LCD 화면 등의 고속 연마에 사용됩니다.

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  • 다이아몬드 슬러리는 사파이어, 실리콘 웨이퍼, 세라믹, 기타 금속 및 기타 재료의 거친 연삭 및 미세 연삭에 널리 사용됩니다.

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  • 다이아몬드 슬러리는 사파이어, 실리콘 웨이퍼, 세라믹 및 기타 재료의 거친 연삭 및 미세 연삭에 널리 사용됩니다.

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